二氧化矽拋光液介紹:
BW二氧化矽拋光液是以高純矽粉為原料，在催化劑作用下，通過熱水解的方法生產。產品具有細微性可控、純度高、拋光速率高的優勢，廣泛用於納米級的化學機械拋光。
二氧化矽拋光液典型型號及技術參數
| 鹼性 pH: 9.8±0.5 | SOQ-2 | SOQ-4 | SOQ-6 | SOQ-8 | SOQ-10 | SOQ-12 |
| 酸性 pH: 2.8±0.5 | ASOQ-2 | ASOQ-4 | ASOQ-6 | ASOQ-8 | ASOQ-10 | ASOQ-12 |
| 細微性(nm) | 10~30 | 30~50 | 50~70 | 70~90 | 90~110 | 110~130 |
| 外觀 | 半透明或乳白色液體 | |||||
| 密度 (g/ml) | 1. 15±0.05 | |||||
| 濃度 (SiO2 (wt)%) | 15-30% | |||||
典型應用-矽晶片拋光參數
典型應用-矽晶片拋光參數
典型應用-砷化鎵晶片拋光參數
典型應用-晶片氧化層拋光參數
典型應用-晶片銅層拋光參數
典型應用-藍寶石晶片拋光參數
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