公告版位

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王娟1,劉玉嶺1,張建新1,舒行軍2
(1.河北工業大學微電子研究所,天津300130;2.中國工程物理研究院機械製造工藝研究所,四川綿陽621900)


1 引言

目 前CMP技術已在微電子技術多層平整化方面獲得了巨大成功,正向計算機硬盤基片、微機械系統、藍寶石、機械磨具、精密閥門、光學玻璃、金屬材料等 方面擴展,並從工業加工擴展到軍事應用,如核試驗條件下的精密拋光試驗以及在平面爆轟驅動試驗裝置中的靶板、探針支架、樣品等關鍵零件等,都需要對金屬 銅、W-Mo合金、Mg-Ag 合金、聚碳酸脂等材料實現極高的平坦化加工精度[1]。

因此,我們與中國工程物理研究院機械製造工藝研究所合作研製適合W-Mo/Mg-Al合金化學機械拋光的拋光液項目,提供的片子成分以鉭為主,還含有少量鎢、鐵。

金 屬鉭(Ta)是一種略呈藍色的淺灰色金屬,具有許多奇異特性,有「金屬王國」多面手之譽。鉭質地十分堅硬,硬度可達6~6.5,熔點高達2996 ℃,僅次於鎢和錸,位居第三。在制取各種無機酸的設備中,鉭可用來替代不銹鋼,其壽命比不銹鋼提高幾十倍。在化工、電子、電氣等工業中,鉭常被用來取代 鉑,降低費用。鉭具有的特性,使其在電容器、高溫合金、化工和原子能工業、醫學等領域有十分廣闊的應用前景。但鉭質地很硬,提高它的CMP速率很不容易, 因此,我們嘗試了一種新型的拋光液,在保證其拋光表面質量的前提下,提高其拋光速率。

2 實驗研究

2.1 實驗設備和材料

實驗設備:電熱鼓風乾燥箱,C6382I~W/YJ 型拋光機,JJ2000型電子天平。

檢測設備:紅外線測溫儀、千分表。

實驗材料:硅溶膠(自製),去離子水(自制,電導率>5MΩ),活性劑(自製),由中國工程物理研究院機械製造工藝研究所提供的 Φ50mm鉭片,鉭含量較高,含有少量的鎢和鐵。

2.2 實驗步驟

① 將陶瓷托盤放入恆溫箱從室溫升高到一定溫度,恆溫一段時間後,取出,然後 將拋光蠟均勻塗抹在粘片處,把片子輕輕放在塗蠟處,緩緩輕揉,最後,取另一平滑的托盤輕放其上,待冷卻到室溫後,用脫脂棉蘸酒精將片子表面及其周邊處理乾 淨;② 將測量點定位,並用千分表測量拋光前厚度的初始值;③ 使用配製的拋光液在拋光機上拋光鉭片,並記錄試驗現象;④ 拋光結束後,觀察拋光片的表面狀態,測量拋光後鉭片的厚度;⑤ 清洗拋光片及拋光機的漿料通道和拋光布。

2.3 實驗結果與討論

採 用河北工業大學自製硅溶膠,向其中加入一定量的有機鹼,攪拌均勻; 再向其中加入適量螯合劑、FA/O活性劑及氧化劑,攪拌均勻,在C6382I-W/YJ型拋光機上對鉭片拋光,實驗條件為:溫度 25℃;漿料的流速250ml/min;拋光時間15min,水拋1min。拋光後得到拋光壓力與拋光速率的關係曲線如圖1所示。

從圖中可看出,隨拋光壓力的增大,拋光速率加快,而且,總體來看,拋光速率均較大,並且其表面光亮、平整,表面粗糙度為0.1409 ~0.1429nm,符合拋光要求。

3 鉭拋光機理

CMP利用機械力量對拋光片表面做功,提供表面薄膜層斷裂腐蝕或生長的力量,並使用漿料中的化學物質來提高拋光效率 [2]。

目 前CMP機理模型大多採用Preston方程 R=Kppv(R為拋光速率; p為壓力;v為拋光墊與晶片的相對轉速),主要考慮壓力、轉速等機械作用對拋光速率的影響。Preston模型只從機械作用的角度定性給出去除速率與壓力 和轉速的關係而沒有考慮化學作用,而化學作用應更複雜重要。展現化學作用速率的是Arrhenius方程, v=Kexp(-Ea/R t),但它忽視了機械作用的影響。經大量實驗後發現,CMP過程中速率不是機械與化學作用的簡單相加,而是v總>>v 機+v化。CMP是在一定壓力下,在旋轉有磨料狀態下的多相化學機械的複雜過程,按現有的Preston方程和Arrhenius方程均無法全面解釋 CMP過程中的現象。試驗表明,CMP是一個多相作用過程,是機械作用與化學作用互相加強與促進的過程。當鉭與拋光液接觸時,表面發生鈍化,發生反應

然後,鉭表面的Ta-O-H與硅溶膠中的Si-O- H團形成化學鏈[3],發生反應

其拋光機理如圖2所示。


首 先硅溶膠粒子和Ta2O5表面發生鍵合[4],然後,周圍硅溶膠粒子的運動產生的應力使二氧化硅粒子和Ta2O5在研磨粒子及拋光布的磨 擦攜帶下從Ta表面剝離,脫離表面,使新裸露的表面再繼續反應,循環往復。由於磨料硅溶膠粒子與Ta表面的鍵合作用強烈,因此拋光速率較高。

4 結語

隨 著微電子技術的發展,CMP技術不斷拓展,應用範圍也不斷擴大。現將該技術應用於工程物理研究院工程物理仿真實驗用以Ta為主要元素的材料表面加工過程中 時,因其一直以機械加工為主要加工手段,精度較低,表面粗糙度只能達到微米級。而目前急於提高加工的精密度,使粗糙度能達到納米級,故我們採用的技術路線 是增加化學作用,利用化學機械全局平整化的方法進行加工,根據CMP理論及相關技術,獲得突破,達到良好的拋光效果。


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BW is specialized in R&D and sourcing the most advanced carbide material with high-tech coating to supply cutting / milling tool for mould & die, aero space and electronic industry. Our main products include solid carbide / HSS end mills, micro electronic drill, IC card cutter, engraving cutter, shell end mills, cutting saw, reamer, thread reamer, leading drill, involute gear cutter for spur wheel, rack and worm milling cutter, thread milling cutter, form cutters for spline shaft/roller chain sprocket, and special tool, with nano grade. Please visit our web www.tool-tool.com for more info.

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1. PVD的含義 -

PVD是英文Physical Vapor Deposition的縮寫,中文意思是「物理氣相沉積」,是指在真空條件下,用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。

2. PVD鍍膜和PVD鍍膜機 -

PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術主要分為三類,真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。對應於PVD技術的三個分類,相應的真空鍍膜設備也就有真空蒸發鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機這三種。

近十多年來,真空離子鍍膜技術的發展是最快的,它已經成為當今最先進的表面處理方式之一。我們通常所說的PVD鍍膜 ,指的就是真空離子鍍膜;通常所說的PVD鍍膜機,指的也就是真空離子鍍膜機。

3. PVD鍍膜技術的原理 -

PVD鍍膜(離子鍍膜)技術,其具體原理是在真空條件下,採用低電壓、大電流的電弧放電技術,利用氣體放電使靶材蒸發並使被蒸發物質與氣體都發生電離,利用電場的加速作用,使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。

4. PVD鍍膜膜層的特點 -

採用PVD鍍膜技術鍍出的膜層,具有高硬度、高耐磨性(低摩擦係數)、很好的耐腐蝕性和化學穩定性等特點,膜層的壽命更長;同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。

5. PVD鍍膜能夠鍍出的膜層種類 -

PVD鍍膜技術是一種能夠真正獲得微米級鍍層且無污染的環保型表面處理方法,它能夠制備各種單一金屬膜(如鋁、鈦、鋯、鉻等),氮化物膜(TiN、ZrN、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN),以及氧化物膜(如TiO等)。

6. PVD鍍膜膜層的厚度 -

PVD鍍膜膜層的厚度為微米級,厚度較薄,一般為0.3μm ~ 5μm,其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm ~ 1μm ,因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學性能,鍍後不須再加工。

7. PVD鍍膜能夠鍍出的膜層的顏色種類 -

PVD鍍膜目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色,淺金黃色,咖啡色,古銅色,灰色,黑色,灰黑色,七彩色等。通過控制鍍膜過程中的相關參數,可以控制鍍出的顏色;鍍膜結束後可以用相關的儀器對顏色進行測量,使顏色得以量化,以確定鍍出的顏色是否滿足要求。

8. PVD鍍膜與傳統化學電鍍(水電鍍)的異同 -

PVD 鍍膜與傳統的化學電鍍的相同點是,兩者都屬於表面處理的範疇,都是通過一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。兩者的不同點是:PVD 鍍膜膜層與工件表面的結合力更大,膜層的硬度更高,耐磨性和耐腐蝕性更好,膜層的性能也更穩定;PVD鍍膜不會產生有毒或有污染的物質。

9. PVD鍍膜技術目前主要應用的行業 -

PVD 鍍膜技術的應用主要分為兩大類:裝飾鍍膜和工具鍍膜。裝飾鍍的目的主要是為了改善工件的外觀裝飾性能和色澤同時使工件更耐磨耐腐蝕延長其使用 壽命;這方面主要應用五金行業的各個領域,如門窗五金、鎖具、衛浴五金等行業。工具鍍的目的主要是為了提高工件的表面硬度和耐磨性,降低表面的摩擦係數, 提高工件的使用壽命;這方面主要應用在各種刀剪、車削刀具(如車刀、刨刀、銑刀、鑽頭等等)、各種五金工具(如螺絲刀、鉗子等)、各種模具等產品中。

10. PVD鍍膜(離子鍍膜)技術的主要特點和優勢 -

和真空蒸發鍍膜真空濺射鍍膜相比較,PVD離子鍍膜具有如下優點:
1 .膜層與工件表面的結合力強,更加持久和耐磨
2 .離子的繞射性能好,能夠鍍形狀複雜的工件
3 .膜層沉積速率快,生產效率高
4 .可鍍膜層種類廣泛
5 .膜層性能穩定、安全性高(獲得FDA認證,可植入人體)

ref: http://2007xy.blog.sohu.com/65222602.html


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手機濺鍍的原理

主要利用輝光放電(glow discharge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面, 靶材的原子被彈出而堆積在基板(substrate)表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。新型的濺鍍設備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氬氣離子化,造成靶與氬氣離子間的撞擊機率增加, 提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都採用直流濺鍍,而不導電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍,基本的原理是在真空中利用輝光放電(glow discharge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面,電漿中的陽離子會加速衝向作為被濺鍍材的負電極表面,這個衝擊將使靶材的物質飛出而沉積在基板上形成薄膜。
一般來說,利用濺鍍製程進行薄膜披覆有幾項特點:

(1)金屬、合金或絕緣物均可做成薄膜材料。

(2)在適當的設定條件下可將多元複雜的靶材製作出同一組成的薄膜。

(3)利用放電氣氛中加入氧或其它的活性氣體,可以製作靶材物質與氣體分子的混合物或化合物。

(4)靶材輸入電流及濺射時間可以控制,容易得到高精度的膜厚。

(5)較其它製程利於生產大面積的均一薄膜。
(6)
濺射粒子幾不受重力影響,靶材與基板位置可自由安排。

(7)基板與膜的附著強度是一般蒸鍍膜的10倍以上,且由於濺射粒子帶有高能量,在成膜面會繼續表面擴散而得到硬且緻密的薄膜,同時此高能量使基板只要較低的溫度即可得到結晶膜。

(8)薄膜形成初期成核密度高,可生產10nm以下的極薄連續膜。

(9)靶材的壽命長,可長時間自動化連續生產。

(10)靶材可製作成各種形狀,配合機台的特殊設計做更好的控制及最有效率的生產。

1、直流濺鍍(DC Sputtering)原理:(適合導體材料的濺鍍)

在真空濺鍍艙中打入Ar,電極加數KV的直流電,因而產生輝光放電。輝光放電將產生Ar電漿,電漿中因陰極電位降而加速(陰極帶負電荷),衝撞target表面,使target表面粒子濺射,濺射粒子沉積於substrate上,形成薄膜。

濺鍍於基板(substrate)的量正比於濺鍍裝置消耗電力,反比於氣體壓力及targetsubstrate的距離。

2、交流濺鍍(RF Sputtering)原理:(適合所有固體材料之濺鍍)

如果 target為絕緣體,則由於target表面帶正電位(target接負電(陰極)),因而造成靶材表面與陽極的電位差消失,不會持續放電,無法產生輝光放電效應,所以若將直流供電改為RF電源,則絕緣體的target亦可維持輝光放電。接RF電源後,電漿中電子移動度將大於離子移動度,target表面累積過剩電子,target表面直流偏壓為負電位,如此即可濺鍍。

為使電力充分導入放電,在高周波電源及電極間插入阻抗匹配電路。阻抗匹配電路與target電極間串聯電容器,絕緣體target也會激起負電位偏壓。此負電位約在高周波濺鍍施加電壓的峰值(實效值的倍)

Target在水冷時同時施加RF高電壓,所以水冷配管要使用teflon等絕緣物,並用電阻高的冷卻水,放電阻抗一般為1~10,以將匹配電路整合成電源的50

在越短的時間內表面負電位增加越多的話,越容易濺鍍,所以在RF供電頻率容許範圍內,增加RF頻旅可增加成膜率。

3、濺鍍注意事項:

3.1 濺鍍時若欲增加成膜率,以提高cycle time,通常以加大濺鍍電壓或降低Ar流量(減少Ar壓力)行之,但Ar流量若過低將產生無法形成輝光放電的危險,故最好還是以調整濺鍍功率及電壓為準。

3.2 當靶材變薄後,由於靶與透明片距離增加,所以成膜率將減少,請適時調整成膜率。

3.3 當僅濺鍍一種材質的靶材時,請盡量降低透明片的溫度以使濺鍍粒子打到透明片上不致得到過多能量,因而破壞鍵結,又反彈回去(適用於CDDVD)。但在鍍多層膜時,鍍第二層以上時即需提高溫度以使濺鍍面溫度與盡量與濺鍍粒子溫度接近,增加界面間的平整性(適用於CD-RWDVD-RAM)

3.4 Ar流量過高會造成濺鍍面粗糙或是孔洞增加,故請千萬要適量。

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是應用電解原理在某些金屬表面鍍上一薄層其他金屬或合金的過程。

電 鍍的原理與電解精煉銅的原理 是一致的。電鍍時,一般都是用含有鍍層金屬離子的電解質配成電鍍液;把待鍍金屬製品浸入電鍍液中與直流電源的負極相連,作為陰極;用鍍層金屬作為陽極,與 直流電源正極相連。通入低壓直流電,陽極金屬溶解在溶液中成為陽離子,移向陰極,這些離子在陰極獲得電子被還原成金屬,覆蓋在需要電鍍的金屬製品上。

電鑄

大致可分為三類,即裝飾性電鍍(以鍍鎳-鉻、金、銀為代表)、防護性電鑄(以鍍鋅為代表)和功能電鍍(以鍍硬鉻為代表電鑄是利用電鍍法來製造產品的功能電鍍之一。

據稱電鑄始於1838年。當時,蘇聯的Jacoli在 石膏母型上塗敷石臘,通過石墨使其表面具有導電性,然後表面鍍銅,鍍後脫模,以此製成銅的複製品。日本昭和初年,京都市工業研究所和大板造幣司等單位就已 積極開展了在石膏母型上鑄銅,在絕緣體上電鍍等方面的研究,並製作了許多精美的金屬工藝品。但是,以石膏或臘等作為母型模進行電鑄時,不僅製造技藝要求 高、操作麻煩,而且母型易破損,難以製出精緻的複製品,所以電鑄的應用範圍十分有限。

後 來,由於塑料母型材料的問世 以及電鍍水平的提高,電鑄技術也得到很大發展,並廣泛應用於製造那些採用其它方法不能製造的或加工有困難的急需產品。特別是最近幾年,由於電鑄用於製造宇 航或原子能的某些零件,它已作為一種尖端加工技術而為人們所矚目。(此外通過電鍍使金屬與金屬相結合的所謂「電結合技術」也進行了研究。這種電結合的金屬 不會因熱而改變金屬材質的機械性能和物理性。

電泳塗裝

是利用外加電場使懸浮於電泳液中的顏料和樹脂等微粒定向遷移並沉積於電極之一的基底表面的塗裝方法。電泳塗裝的原理發明於是20世紀30年代末,但開發這一技術並獲得工業應用是在1963年以後,電泳塗裝是近30年來發展起來的一種特殊塗膜形成方法,是對水性塗料最具有實際意義的施工工藝。具有水溶性、無毒、易於自動化控制等特點,迅速在汽車、建材、五金、家電等行業得到廣泛的應用。

電 泳塗裝是把工件和對應的電極放入水溶性塗料中,接上電源後,依靠電場所產生的 物理化學作用,使塗料中的樹脂、顏填料在以被塗物為電極的表面上均勻析出沉積形成不溶於水的漆膜的一種塗裝方法。電泳塗裝是一個極為複雜的電化學反應過 程,其中至少包括電泳、電沉積、電滲、電解四個過程。電泳塗裝按沉積性能可分為陽極電泳(工件是陽極,塗料是陰離子型)和陰極電泳(工件是陰極,塗料是陽 離子型);按電源可分為直流電泳和交流電泳;按工藝方法又有定電壓和定電流法。目前在工業上較為廣泛採用的是直流電源定電壓法的陽極電泳。

濺鍍

原理主要利用輝光放電(glowdis-charge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶(tar-get)表面,靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。新型的濺鍍設備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氬氣離子化,造成靶與氬氣離子間的撞擊機率增加,提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都採用直流濺鍍,而不導電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍,基本的原理是在真空中利用輝光放電(glowdis-charge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶材(tar-get)表面,電漿中的陽離子會加速衝向作為被濺鍍材的負電極表面,這個衝擊將使靶材的物質飛出而沉積在基板上形成薄膜。

一般來說,利用濺鍍製程進行薄膜披覆有幾項特點:

(1)金屬、合金或絕緣物均可做成薄膜材料。

(2)再適當的設定條件下可將多元複雜的靶材製作出同一組成的薄膜。

(3)利用放電氣氛中加入氧或其它的活性氣體,可以製作靶材物質與氣體分子的混合物或化合物。

(4)靶材輸入電流及濺射時間可以控制,容易得到高精度的膜厚。

(5)較其它製程利於生產大面積的均一薄膜。

(6)濺射粒子幾不受重力影響,靶材與基板位置可自由安排。

(7)基板與膜的附著強度是一般蒸鍍膜的10倍以上,且由於濺射粒子帶有高能量,在成膜面會繼續表面擴散而得到硬且緻密的薄膜,同時此高能量使基板只要較低的溫度即可得到結晶膜。

(8)薄膜形成初期成核密度高,可生產10nm以下的極薄連續膜。

(9)靶材的壽命長,可長時間自動化連續生產。

(10)靶材可製作成各種形狀,配合機台的特殊設計做更好的控制及最有效率的生產。

陽極處理

一 種電解過程,提供鍍層金屬的金屬片作用有如陽極,電解液通常為鍍著金屬的離子 溶液,被鍍物作用則有如陰極。陽極與陰極間輸入電壓後,吸引電解液中的金屬離子游至陰極,還原後即鍍著其上。同時陽極的金屬再溶解,提供電解液更多的金屬 離子。某些情況下使用不溶性陽極,電鍍時需添加新群電解液補充鍍著金屬離子。

一般鋁合金很容易氧化,氧化層雖有一定鈍化作用,但長期曝露之結果,氧化層仍會剝落,喪失保護作用,因此陽極處理的目的即利用其易氧化之特性,藉電化學方法控制氧化層之生成,以防止鋁材進一步氧化,同時增加表面的機械性質。

ref: http://hjl5353.blog.sohu.com/73448951.html


歡迎來到Bewise Inc.的世界,首先恭喜您來到這接受新的資訊讓產業更有競爭力,我們是提供專業刀具製造商,應對客戶高品質的刀具需求,我們可以協助客戶滿足您對產業的不同要求,我們有能力達到非常卓越的客戶需求品質,這是現有相關技術無法比擬的,我們成功的滿足了各行各業的要求,包括:精密HSS DIN切削刀具協助客戶設計刀具流程DIN or JIS 鎢鋼切削刀具設計NAS986 NAS965 NAS897 NAS937orNAS907 航太切削刀具,NAS航太刀具設計超高硬度的切削刀具醫療配件刀具設計汽車業刀具設計電子產業鑽石刀具木工產業鑽石刀具等等。我們的產品涵蓋了從民生刀具到工業級的刀具設計;從微細刀具到大型刀具;從小型生產到大型量產;全自動整合;我們的技術可提供您連續生產的效能,我們整體的服務及卓越的技術,恭迎您親自體驗!!

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1 真空濺鍍

目前,關於鎂合金真空濺鍍的研究比較少。本人曾經讀到過一篇文獻,是介紹香港鎂合金表面處理協會要對鎂合金真空濺鍍展開研究,但是後來幾乎 沒有看到這方面的介紹。從理論上講,讓鎂合金真空鍍達到耐腐蝕目的比較困難,真空鍍膜比較薄,如果要反覆的鍍,以保證膜達到一定的厚度來保護鎂合金,那從 成本角度考慮就行不通。

本人曾試圖將磷化後的鎂合金進行真空鍍,但是耐蝕性和外觀效果效果不佳。

有一種途徑可以將鎂合金進行真空鍍,不但可以保證耐腐蝕性能,還可以做漂亮的外觀,但是成本非常高。這裡就不在贅述。

2 鎂合金直接進行塗裝。

鎂合金的磷化,不但保證了其耐腐蝕性,而且提高了塗層與鎂合金基材的附著力。鎂合金直接塗裝可能附著力不佳,另外,一些機構件內部,或者鎂合金的內面,是不能塗裝的,所以鎂合金直接塗裝有一定的局限性。

3 鎂合金微弧氧化

目前關於鎂合金微弧氧化研究不少,陶瓷相的鎂合金表面有著非常的好的耐腐蝕能力,而且附著力也很好。但是其設備相對昂貴,操作相比前面幾種複雜,目前的應用有限。

4 鎂合金的陽極氧化

鎂合金的陽極氧化和鎂合金微弧氧化唯一區別的地方是二者電壓範圍不一樣,微弧氧化需要的電壓較高,而陽極氧化需要的電壓相對較低。該工藝目前研究也很多,但是在實際生產中應用還是很少。

5 鎂合金的其他表面處理也很多,比如說溶膠凝膠法,氣相沉積,表面激光熔覆/合金化、離子注入法等等,這裡就不再評論。


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1, 電磁兼容性(Electromagnetic Compatibility)縮寫EMC,就是指某電子設備既不干擾其它設備,同時也不受其它設備的影響。電磁兼容性和我們所熟悉的安全性一樣,是產品質 量最重要的指標之一。安全性涉及人身和財產,而電磁兼容性則涉及人身和環境保護。 電磁波會與電子元件作用,產生干擾現象,稱為EMI(Electromagnetic Interference)。例如,TV螢光屏上常見的「雪花」便表示接受到的訊號被干擾。

2,真空技術是結合機械、電機、材料、化工和航太等技術發展出來的產業,亦是目前我國與美、日等國極力推動之十大新興產業之一。真空技術應用範圍日趨廣 泛,運用對像包括光電、半導體和LCD產業等,近年來尤其在光電、IC和LCD等產業之製造設備,更是成長迅速。 EMI濺射鍍膜具有以下特點: 價格低(國內擁有自主知識產權的話)。 真空濺射加工的金屬薄膜厚度只有0.5~2μm,絕對不影響裝配。 真空濺射是徹底的環保製程,絕對環保無污染。 欲濺射材料無限制, 任何常溫固態導電金屬及有機材料、絕緣材料皆可使用(例:銅、鉻、銀、金、不銹鋼、鋁、氧化矽SiO2等)。 被濺射基材幾無限制(ABS、PC、PP、PS、玻璃、陶瓷、epoxy resin等)。 膜質緻密均勻、膜厚容易控制。 附著力強(ASTM3599方法測試4B)。 可同時搭配多種不同濺射材料之多層膜。並且,可隨客戶指定變換鍍層次序。

3,真空濺鍍EMI具有高導電性和高電磁屏蔽效率等特點,廣泛應用於通訊製品(移動電話)、電腦(筆記本)、便攜式電子產品、消費電子、網絡硬件(服務器 等)、醫療儀器、家用電子產品和航空航天及國防等電子設備的EMI屏蔽。 適用於各種塑膠製品的金屬屏蔽(PC、PC+ABS、ABS等)。

4,原理說明: 1. 在10-7 Torr 高度真空狀態下,充入適量氬氣; 2. 施以高壓直流電,將氬氣電離成氬離子,加速撞擊金屬靶材,濺射出金屬離子; 3. 金屬離子在電場中加速濺射在基材(塑殼)上,形成金屬離子薄膜。

5,各種EMI處理方法的比較



6, 真空濺射 基本原理為將金屬通過真空輝光放電沉積在塑料部件上,其主要優點是美觀和顯著的屏蔽性質膜層連續且非常緻密。膜層為0.5~2μm厚,且相當均勻。 尼龍,聚芳基化物,聚酯,丙烯睛--丁二烯--苯乙烯三元共聚物,聚苯乙烯和聚碳酸酯很適合此種工藝。 真空濺射整套設備的費用較貴,其尺寸大小將限制需要鍍覆的部件的數量。而且保證平滑的金屬塗層所用的夾具也將佔用小室的空間。目前該核心技術主要掌握在幾 家國外大公司手中,尤其以德國技術水平最高。影響該生產工藝價格的主要因素有生產設備、生產工藝等方面,如能夠進行國產化則價格可以相當低廉。 通常,真空鍍覆的塗層是均勻的,不影響塑料的衝擊強度,也不影響其內部公差。這種處理能提供塗層的最佳選擇,能屏蔽某些產品的重要區域而堵塞穿孔。能給出 上至70dB抗擾度,並具有抗腐蝕性。 該工藝是一種全新的完全環保製程,不存在任何環保問題。  導電漆 迄今為止,成功的導電漆都基於聚丙烯、聚氨脂、乙烯樹脂或環氧樹脂等襯底。導電漆都有適用期,而更重要的還有貯存期,後者典型的為6至12個月。所有這些 漆都對塑料基底存在腐蝕作用,所以導電漆能穿透塑料並固定在孔縫中。九十年代的現代導電漆都有不同程度的膠粘性質,而以前由於缺乏膠粘性,經常產生導電漆 剝落,甚至將印製板導電路徑短路,而不完善的屏蔽所留下的縫隙將起縫隙天線的作用。 所有基底表面應仔細清潔,清除油脂或其它污漬,輕度擦傷也將影響粘附力。  無電解電鍍(化學鍍) 化學鍍的程序不應與常規的電鍍混浠,電鍍需要用直流電流使金屬鍍覆。化學鍍或自動催化鍍是化學鍍覆均勻的固態金屬塗層,它將減小零件表面的微電池反應。塑 料的化學鍍處理是在非導電塑料基材上產生薄金屬塗層。通常選用復合鍍,即鍍銅(高導電性)再鍍鎳(防銹)。化學鍍銅本質上是純銅鍍覆,而化學鍍鎳可包含3 -10%磷。 較差質量的模壓製品和複雜形狀的模壓製品不適用於雙側處理:因為所有模壓製品的高應力部分對化學反應都很敏感,所以較差質量的模壓製品在化學腐蝕階段就要 發生破裂。 化學鍍與普通的電鍍比較類似,同樣存在嚴重的環保問題。

7, EMC設計的一般原則: EMC設計應是任何電子器件和系統綜合設計的一部分。它遠比試圖使產品達到EMC的其他方法更節約成本。EMC的主要設計技術包括:電磁屏蔽方法、電路的 濾波技術以及包括應特別注意的接地元件搭接的接地設計。  下圖給出了器件和系統EMC最佳設計的推薦方法。這是一個金字塔式圖形。 首先,優秀的EMC設計的基礎是良好的電氣和機械設計原則的應用。這其中包括可靠性考慮,比如在可接受的容限內設計規範的滿足,好的組裝方法以及各種正在 開發的測試技術。  一般來說,驅動當今電子設備的裝置要安裝在PCB上。這些裝置由具有潛在干擾源以及對電磁能量敏感的元件和電路構成。因此,PCB EMC設計是EMC設計中的下一個最重要的問題。有源元件的位置、印製線的走線、阻抗的匹配、接地的設計以及電路的濾波均應在EMC設計時加以考慮。一些 PCB元件還需要進行屏蔽。  再次,內部電纜一般用來連接PCB或其他內部子組件。因此,包括走線方法和屏蔽的內部電纜EMC設計對於任何給定器件的整 體EMC來說是十分重要的。  在PCB的EMC設計和內部電纜設計完成以後,應特別注意機殼的屏蔽設計和所有縫隙、穿孔和電纜通孔的處理方法。  最 後,還應著重考慮輸入和輸出電源和其他電纜濾波問題。 一般來講,EMI防護是一個系統工程,從產品設計開發階段即需要將EMI貫穿始終。但是,由於各個方面的原因,高頻線路很難達到在PCB設計階段即解決 EMI問題,大多都需要通過對機殼進行屏蔽處理來達到防EMI效果。

ref: http://vanguardmichael.blog.sohu.com/22352160.html


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如 今我們不難發現,軍用武器系統中幾乎都裝備有各種各樣的光電傳感器件,而在這些光電傳感器件中,或多或少都採用了 各種樣式的光學零件。從美國陸軍所作的一項調查報告的材料中我們知道,1980~1990年美國軍用激光和紅外熱成像產品所需要的各種光學零件就有 114.77萬塊,其中球面光學零件為63.59萬塊,非球面光學零件為23.46萬塊,平面光學零件為18.1萬塊,多面體掃瞄鏡為9.62萬塊。拿 M1坦克為例,其大約使用了90塊透鏡、30塊稜鏡以及各種反射鏡、窗口和激光元件。又如一具小小的AN/AVS-6飛行員夜視眼鏡就採用了9塊非球面光 學零件和2塊球面光學零件。 90度離軸拋物面

   從70年代開始,以紅外熱成像和高能激光為代表的軍用光學技術迅速發展。軍用光學系統不但要求成像質量好,而且要求體積小、重量輕、結構簡單。這對光學 加工行業是一個嚴峻考驗。為了跟上時代發展的步伐,設計和製作出質地優良的光學成像系統,光學零件加工行業於70年代開展了大規模技術革命和創新活動,研 究開發出許多新的光學零件加工方法,如非球面光學零件的加工法。近10多年來,新的光學零件加工技術得到進一步地推廣和普及。目前,國外較為普遍採用的光 學零件加工技術主要有:

  計算機數控單點金剛石車削技術、光學玻璃透鏡模壓成型技術、光學塑料成型技術、計算機數控研磨和拋光技術、環氧樹脂複製技術、電鑄成型技術……以及傳統的研磨拋光技術等。

  2 計算機數控單點金剛石車削技術

   計算機數控單點金剛石車削技術,是由美國國防科研機構於60年代率先開發、80年代得以推廣應用的非球面光學零件加工技術。它是在超精密數控車床上,採 用天然單晶金剛石刀具,在對機床和加工環境進行精確控制條件下,直接利用金剛石刀具單點車削加工出符合光學質量要求的非球面光學零件。該技術主要用於加工 中小尺寸、中等批量的紅外晶體和金屬材料的光學零件,其特點是生產效率高、加工精度高、重複性好、適合批量生產、加工成本比傳統的加工技術明顯降低。採用 該項金剛石車削技術加工出來的直徑120mm以下的光學零件,面形精度達l/2~1l,表面粗糙度的均方根值為0.02~0.06mm。

   目前,採用金剛石車削技術可以加工的材料有:有色金屬、鍺、塑料、紅外光學晶體(碲鎘汞、銻化鎘、多晶硅、硫化鋅、硒化鋅、氯化納、氯化鉀、氯化鍶、氟 化鎂、氟化鈣、鈮酸鋰、KDK晶體)無電鎳、鈹銅、鍺基硫族化合物玻璃等。上述材料均可直接達到光學表面質量要求。此技術還可加工玻璃、鈦、鎢等材料,但 是目前還不能直接達到光學表面質量要求,需要進一部研磨拋光。

  計算機數控單點金剛石車削技術除了可以用來直接加工球面、非球面 光學零件外,還可以用來加工各種光學零件的成型模具和光學零件機體,例如加工玻璃模壓成型模具、複製模具、光學塑料注射成型模具和加工複製環氧樹脂光學零 件用的機體等。該技術與離子束拋光技術相結合,可以加工高精度非球面光學零件;與鍍硬碳膜工藝和環氧樹脂複製技術相結合,可生產較為便宜的精密非球面反射 鏡和透鏡。假若在金剛石車床上增加磨削附件或採用陶瓷刀具、安裝精密夾具和採用在-100℃低溫進行金剛石切削等措施,此項技術的應用範圍將可進一步擴 大。目前,美國亞里桑那大學光學中心已經使用該技術取代了傳統的手工加工工藝,但加工玻璃光學零件時,還不能直接磨削成符合質量要求的光學鏡面,仍然需要 進行柔性拋光。

  單點金剛石車削光學零件技術經濟效果非常明顯,例如加工一個直徑100mm的90°離軸拋物面鏡,若用傳統的研磨拋光工藝方法加工,面形精度最高達到3mm(5l),加工時間需要12個月,每一個拋物面鏡的加工成本為5萬美元。
而 採用金剛石車削方法,3個星期就能完成,加工成本只有0.4萬美元,面形精度可達0.6μm(1λ)。美國霍尼韋爾公司就用這種技術加工AN/AAD-5 紅外偵察裝置的4面體掃瞄轉鏡。轉鏡的每一面尺寸為88.9\』』203.2mm,每面的平直度要求為l/2,角精度為90°±42。用一台車床,15個 月就加工出了124個掃瞄旋轉反射鏡,質量均達到了設計技術要求。每個旋轉反射鏡比用傳統的加工方法加工節約費用2770美元。霍尼韋爾公司用這種工藝生 產了200個4面體旋轉鏡,共計節約近90萬美元。而且還為AN/AAD-5紅外偵察裝置加工了10萬個平面反射鏡,節約費用1千多萬美元。在 1980~1990年這10年間,平面(50\』』50mm)、多面體(直徑90mm)、球面(直徑100mm)、非球面(直徑125mm)等4種軍用光 學零件的加工費用,按保守的經濟效果計算,美國防部就總計節省約4億美元。
   金剛石車削機床是金剛石車削工藝的關鍵技術,沒有金剛石車削機床,就不可能實現金剛石車削加工光學零件新工藝。金剛石車削機床屬於高精密機床,機床的主 軸精度和溜板運動精度比一般的機床要高出幾個數量級,主軸軸承和溜板導軌通常採用空氣軸承和油壓靜力支承結構,機床運動部件的相對位置採用激光位移測量裝 置測定。在工件加工的整個過程中,採用激光干涉儀測量工件的面形誤差。車床上裝有反饋裝置,可以補償運動誤差。金剛石車床的主要生產廠家是美國的莫爾精密 機床公司和普奈莫精密公司。進入90年代後,日本東芝機械公司也開始生產這種車床。莫爾精密機床公司生產銷售的主要產品是Moore M-18、-40非 球面加工機,Moore T型床身機床,Moore光學平面加工機,Moore M-18油淋非球面加工機等。普奈莫精密公司生產出售的產品主要有MSG -325型、ASG-2500型、Nanoform600型、Ultra 2000型等金剛石車床。日本東芝機械公司生產出售產品是ULG-100A (H)金剛石車床。

  金剛石車床的價格十分昂貴,而且還不 斷提高。以MSG325型車床為例,在80年代初每台價為30~40萬美 元,而到了90年代初每台價已升高到將近100萬美元。這個價格對用戶來說是一個不小的經濟負擔,推廣普及應用有一定難度。因此,目前各國正在積極研究開 發低成本的金剛石車削機床。下面介紹幾種目前正在推廣應用的金剛石車削機床。

  (1)莫爾M-18非球面加工機

   莫爾M-18非球面加工機是一種3軸計算機數控超精密加工系統,可以使用單點金剛石刀具車削,也可以使用磨輪磨削,既能加工各種高精度平面、球面和非球 面光學零件,又能加工模具表面和其它表面。金剛石車削和磨輪磨削相結合,擴大了機床的加工能力。例如加工精密模具,在一台這樣的金剛石車床就能將其加工完 成。首先使用磨輪在模具基體上加工出公差一致的面形,然後鍍制無電鎳,最後使用單點金剛石刀具,車削無電鎳表面,完成模具的精加工。該加工機床採用了 Allen-Bradley7320型、8200型或通用電器公司2000型計算機數控系統,車床的位置控制採用了Newlett- Packard5501A型激光傳感器系統。莫爾M-18機床的主要技術性能指標如下:

  X軸行程410mm;Z軸行程 230mm;空氣軸承主軸中心到工作檯面的距離為292mm,到旋轉工作檯面的距離為178mm;X軸和Z軸在全部行程上的直線性為0.5mm;X軸和Z 軸在全部行程上的垂直度為1μrad;X軸Z軸在全部行程上的偏向角為0.5μrads;X軸Z軸全部行程上的定位精度1.5mm;X軸和Z軸每 25.4mm行程的定位精度為0.5mm;B軸旋轉360°時的角度偏差為±3μrads;X軸和Z軸的讀數精度為5mm;B軸的讀數精度為 1.3μrads;主軸的軸向誤差為0.05mm,逕向誤差為0.2mrad;機床的體積(高\』』長\』』寬)為1778\』』2032\』』 1800mm。

(2)普奈莫MSG-325型金剛石車床

   普奈莫MSG-325型金剛石車床是計 算機數控型雙軸金剛石車床。機床採用一個重6t的花崗岩底座,花崗岩底座裝在壓縮空氣墊上用於隔離振動,使振動減小到2Hz。X和Z溜板都安裝在花崗岩底 座上,兩個溜板相互垂直安裝,在整個行程上的垂直精度在0.76mm以內。X溜板上裝有一個可以互換的刀架,Z溜板上裝有一個空氣軸承主軸。兩個溜板的運 動的精確位置用一個激光傳感器系統測定,精度為0.025mm。

  該機床可以加工紅外和可見光波段應用的各種球面和非球面透鏡、菲涅耳透鏡、反射鏡、偏軸圓錐截面鏡、多面體反射鏡以及精密錄像鏡頭等光學零件。在光學零件加工過程中,可採用激光干涉儀對加工件進行面形非接觸測量。機床的主要技術性能指標如下:

   機床的主軸採用空氣軸承,在1000轉/min時,在前端測量,其徑向和軸向跳動均為0.1mm;驅動馬達為1/3HP100~2400轉/min直流 伺伏服馬達;採用空氣軸承的X溜板的名義尺寸為609\』』762mm,最大行程為304mm,最大移動速度20cm/min,水平方向運動誤差 0.5mm,垂直方向運動誤差1.27mm,精密絲槓驅動馬達1HP0~2500轉/min;Z溜板最大行程為203mm,其它性能指標均與X溜板的相 同;加工工件的直徑,正常機床結構的為356mm,大孔徑機床結構的為560mm;加工工件的最大加工深度204mm;工件直徑為150mm時,加工工件 的面形精度可達l/2。

  (3)ULG-100A(H)型超精密非球面金剛石車床

  該機床是日本東芝機械公司 90年代產品,從1992年6月開始,每月生產2台,每台機床售價5000萬日元。機床主軸採用高剛性超精密空氣靜軸承,機床數控裝置具有反饋功能。它可 加工各種光學零件和非球面透鏡模壓成型用金屬模具。加工精度可達0.01mm。模壓成型金屬模具利用金剛石刀具和磨輪進行車削和研磨加工,能達到鏡面質 量。機床的主要技術性能指標如下:

  機床的X軸(研磨輪軸)最大行程為150mm;Z軸(工件軸)最大行程為100mm;研磨輪 軸最高轉速為40000轉/min;研磨輪馬達1kW/40000轉/min;工件軸轉速20~1500轉/min;工件軸馬達0.25kW/3000轉 /min;研磨輪主軸軸向和徑向跳動0.05mm;工件主軸軸向和徑向跳動0.05mm;X軸移動直線性0.1mm/150mm;Z軸移動直線性 0.1mm/100mm。

  3 光學玻璃透鏡模壓成型技術

  光學玻璃透鏡模壓成型技術是一種高精度光學元件加 工技術,它是把軟化的玻璃放入高精度的模具中,在加溫加壓和無氧的條件下,一次性直接模壓成型出達到使用要求的光學零件。這項技術自80年代中期開發成功 至今已有十幾年的歷史了,現在已成為國際上最先進的光學零件製造技術方法之一,在許多國家已進入生產實用階段。這項技術的普及推廣應用是光學行業在光學玻 璃零件加工方面的重大革命。由於此項技術能夠直接壓製成型精密的非球面光學零件,從此便開創了光學儀器可以廣泛採用非球面玻璃光學零件的時代。因此,也給 光電儀器的光學系統設計帶來了新的變化和發展,不僅使光學儀器縮小了體積、減少了重量、節省了材料、減少了光學零件鍍膜和工件裝配的工作量、降低了成本, 而且還改善了光學儀器的性能,提高了光學成像的質量。

  光學玻璃模壓成型法製造光學零件有如下優點:①不需要傳統的粗磨、精磨、拋 光、磨邊定中心等工序,就能使零件達到較高的尺寸精度、面形精度和表面粗糙度;②能夠節省大量的生產設備、工裝輔料、廠房面積和熟練的技術工人,使一個小 型車間就可具備很高的生產力;③可很容易經濟地實現精密非球面光學零件的批量生產;④只要精確地控制模壓成型過程中的溫度和壓力等工藝參數,就能保證模壓 成型光學零件的尺寸精度和重複精度;⑤可以模壓小型非球面透鏡陣列;⑥光學零件和安裝基準件可以製成一個整體。

目 前批量生產的模壓成型非球面光學零件的直徑為2~50mm,直徑公差為±0.01mm;厚度為 0.4~25mm,厚度公差為±0.01mm;曲率半徑可達5mm;面形精度為1.5λ,表面粗糙度符合美國軍標為80-50;折射率可控制到±5×10 -4mm,折射均勻性可以控制到<5×10-6mm;雙折射小於0.01λ/cm。

  現在,世界上已掌握這項先進玻璃光學零件製造技術的著名公司和廠家有美國的柯達、康寧公司,日本的大原、保谷、歐林巴斯、松下公司,德國的蔡司公司和荷蘭的菲利浦公司等。

  玻璃光學零件模壓成型技術是一項綜合技術,需要設計專用的模壓機床,採用高質量的模具和選用合理的工藝參數。成型的方法,玻璃的種類和毛坯,模具材料與模具製作,都是玻璃模壓成型中的關鍵技術。

  3.1 成型方法

  玻璃之所以能夠精密模壓成型,主要是因為開發了與軟化的玻璃不發生粘連的模具材料。

   原來的玻璃透鏡模壓成型法,是將熔融狀態的光學玻璃毛坯倒入高於玻璃轉化點50℃以上的低溫模具中加壓成形。這種方法不僅容易發生玻璃粘連在模具的模面 上,而且產品還容易產生氣孔和冷模痕跡(皺紋),不易獲得理想的形狀和面形精度。後來,採用特殊材料精密加工成的壓型模具,在無氧化氣氛的環境中,將玻璃 和模具一起加熱升溫至玻璃的軟化點附近,在玻璃和模具大致處於相同溫度條件下,利用模具對玻璃施壓。接下來,在保持所施壓力的狀態下,一邊冷卻模具,使其 溫度降至玻璃的轉化點以下(玻璃的軟化點時的玻璃粘度約為107。6泊,玻璃的轉化點時的玻璃粘度約為1013。4泊)。這種將玻璃與模具一起實施等溫加 壓的辦法叫等溫加壓法,是一種比較容易獲得高精度,即容易精密地將模具形狀表面複製下來的方法。這種玻璃光學零件的製造方法缺點是:加熱升溫、冷卻降溫都 需要很長的時間,因此生產速度很慢。為了解決這個問題,於是對此方法進行了卓有成效的改進,即在一個模壓裝置中使用數個模具,以提高生產效率。然而非球面 模具的造價很高,採用多個模具勢必造成成本過高。針對這種情況,進一步研究開發出與原來的透鏡毛坯成型條件比較相近一點的非等溫加壓法,藉以提高每一個模 具的生產速度和模具的使用壽命。另外,還有人正在研究開發把由熔融爐中流出來的玻璃直接精密成型的方法。

  3.2 玻璃的種類和毛坯

   玻璃毛坯與模壓成型品的質量有直接的關係。按道理,大部分的光學玻璃都可用來模壓成成型品。但是,軟化點高的玻璃,由於成型溫度高,與模具稍微有些反 應,致使模具的使用壽命很短。所以,從模具材料容易選擇、模具的使用壽命能夠延長的觀點出發,應開發適合低溫(600℃左右)條件下模壓成型的玻璃。然 而,開發的適合低溫模壓成型的玻璃必需符合能夠廉價地製造毛坯和不含有污染環境的物質(如PbO、As2O3)的要求。對模壓成型使用的玻璃毛坯是有要求 的:①壓型前毛坯的表面一定要保持十分光滑和清潔;②呈適當的幾何形狀;③有所需要的容量。毛坯一般都選用球形、圓餅形或球面形狀,採用冷研磨成型或熱壓 成型。

  3.3 模具材料與模具加工

  模具材料需要具備如下特徵:①表面無疵病,能夠研磨成無氣孔、光滑的光 學鏡面;②在高溫環境條件下具有很高的耐氧化性能,而且結構等不發生變化,表面質量穩定,面形精度和光潔度保持不變;③不與玻璃起反應、發生粘連現象,脫 模性能好;④在高溫條件下具有很高的硬度和強度等。

  現在已有不少有關開發模具材料的專利,最有代表性的模具材料是:以超硬合金做 基體,表面鍍有貴金屬合金和氮化鈦等薄膜;以碳化硅和超硬合金做基體,表面鍍有硬質碳、金剛石狀碳等碳系薄膜;以及Cr2O-ZrO2-TiO2系新型陶 瓷玻璃透鏡壓型用的模具材料,一般都是硬脆材料,要想把這些模具材料精密加工成模具,必需使用高剛性的、分辨率能達到0.01μm以下的高分辨率超精密計 算機數字控制加工機床,用金剛石磨輪進行磨削加工。磨削加工可獲得所期盼的形狀精度,但然後還需再稍加拋光精加工成光學鏡面才行。在進行高精度的非球面加 工中,非球面面形的測試與評價技術是非常重要的。對微型透鏡壓型用模的加工,要求更加嚴格,必需進一步提高精度和減輕磨削的痕跡。

  3.4 玻璃模壓成型技術的應用

  目前,光學玻璃透鏡模壓成型技術,已經用來批量生產精密的球面和非球面透鏡。平時,除了一般生產製造直徑為15mm左右的透鏡外,還能生產製造直徑為50mm的大口徑透鏡、微型透鏡陣列等。現已能製造每個透鏡的直徑為100μm的微型透鏡陣列。

  (1)製造軍用和民用光學儀器中使用的球面和非球面光學零件,如各透鏡、稜鏡、以及濾光片等;
  (2)製造光通信用的光纖耦合器用非球面透鏡;
  (3)製造光盤用的聚光非球面透鏡。使用一塊模壓成型法製造的非球面透鏡,可代替光盤讀出器光學鏡頭內使用的三塊球面透鏡。由於模壓成型非球面透鏡的精度很高,不僅能夠控制和校正大數值孔徑的軸向像差,而且還使原來的光學鏡頭的重量減輕、成本降低30~50%。
  (4)製造照相機取景器非球面透鏡、電影放映機和照相機鏡頭的非球面透鏡等。美國僅柯達公司每年就需要壓型幾百萬個非球面光學零件。

4 光學塑料成型技術

   光學塑料成型技術是當前製造塑料非球面光學零件的先進技術,包括注射成型、鑄造成型和壓製成型等技術。光學塑料注射成型技術主要用來大量生產直徑 100mm以下的非球面光學零件,也可製造微型透鏡陣列。而鑄造和壓製成型主要用於製造直徑為100mm以上的非球面透鏡光學零件。

塑料非球面光學零件具有重量輕、成本低;光學零件和安裝部件可以注塑成為一個整體,節省裝配工作量;耐衝擊性能好等優點。因此,在軍事、攝影、醫學、工業 等領域有著非常好的應用前景。美國在AN/AVS-6型飛行員微光夜視眼鏡中就採用了9塊非球面塑料透鏡。此外,在AN/PVS-7步兵微光夜視眼鏡、 HOT夜視眼鏡、"銅斑蛇"激光制導炮彈導引頭和其他光電制導導引頭、激光測距機、軍用望遠鏡以及各種照相機的取景器中也都採用了非球面塑料透鏡。美國 TBE公司在製造某種末制導自動導引頭用非球面光學零件時,曾對幾種光學塑料透鏡成型法作過經濟分析對比,認為採用注射成型法製造非球面光學塑料透鏡最為 合算。

  4.1 注射成型法

注射成型是將加熱成流體的定量的光學塑料注入到不銹鋼模具中,在加熱加壓條 件下成型,冷卻固化後打開模具,便可獲得所需要的光學塑料零件。光學塑料注射成型的關鍵環節是模具,由於光學塑料模壓成型的工作溫度較低,所以對模具的要 求要比對玻璃模壓成型模具的要求低一些。非球面模具的超精密加工相當困難,通常的加工都是首先在數控機床上將模具的坯件磨削成近似非球面,然後用范成精磨 法逐步提高非球面的面形精度和表面粗糙度,最後用拋光法加工成所要求的面形精度和表面粗糙度。可是,由於數控機床的加工精度比較低,在模具加工過程中需要 對模具進行反覆檢測和修改,逐步地提高模具精度,從而使模具的成本變得很高。因而現在的模具,是用剛性好、分辨率高的計算機數控超精密非球面加工機床和非 球面均勻拋光機超精密加工而成的。首先用計算機數控超精密非球面機床將模坯加工出面形精度達±0.1μμm的非球面,然後用拋光機在保持非球面面形精度不 變的條件下均勻地輕拋光,大約拋去0.01μm,使模具表面的粗糙度得到提高。注射成型的光學塑料零件的焦距精度可以控制到0.5~1%,面形精度高於 λ/4,長度公差達0.0076mm,厚度公差達0.012mm。

  下面介紹一種日本人發明的高精度塑料光學零件注射成型法--澆口密封成型法。

   澆口密封成型法,是一種向加熱至樹脂轉化溫度(Tg)以上的金屬模中注射熔融的樹脂(注射量應是:冷卻結束打開模具時樹脂的壓力剛好是大氣的壓力的 量),迅速密封澆口,等溫度、壓力均勻後,在相對容積一定、溫度-壓力均勻條件下,徐徐冷卻至樹脂的熱變形溫度以下後,打開模具取出壓形品的成型方法。

  首先,以大約130MP2的高壓,將高溫的熔融樹脂注射到模具中,在高溫(T1)下將澆口密封。密封在模具中的樹脂,其壓力在均勻化 的過程中降至30MPa左右(此時的溫度為:比樹脂轉化溫度Tg高一些的某一溫度T2)。從注射開始經過一定時間後,就可由壓型機的合模裝置上將模具單體 取下。單體模具經過緩緩冷卻後才可開模,取出壓型成品。

  澆口密封成型法的關鍵問題在於,注射到模具中的300℃左右高溫的熔融樹 脂,如何以130MPa的壓力將澆口密封死。其做法是:在成型注射之前,先將一個小球放入金屬模具的澆口部,當向模具中注射熔融樹脂時,小球受到樹脂的擠 壓就會從澆口處向靠近模穴一側移動。這時,在澆口部通往模穴的地方就會出現間隙,熔融樹脂從此間隙能夠流入到模穴中。而當注射成型機停止向模具內高壓注射 樹脂時,由於壓差的原因,瞬間發生樹脂逆流現象,小球則被這種逆流的樹脂又從靠近模穴的一側推向模具的澆口處。此時,小球依靠高壓的樹脂所發生的擠壓力將 模具澆口堵死,完成澆口密封工作。
  該澆口密封成型法由於是樹脂注射後用小球進行澆口密封的,因而不需要保壓和壓縮機構及其工作。所以注 射了樹脂後的金屬模具很容易從成型機上取下來,以金屬模具單體脫離成型機身的形式進行長時間的冷卻。這不但大大提高了成型機的工作效率,同時也提高了單位 時間的生產效率。這種成型法可將一部分功能分配到機外的裝置中去完成,改變了過去那種功能只能在成型機裝置內進行的做法。

  澆口密封成型工序分4步工序進行。

  (1)加熱工序。由金屬模具的外部進行傳導加熱。從成型品的取出溫度加熱到Tg(樹脂的轉化溫度-即模具加溫需要達到的溫度)以上的一定溫度為止,用很短的時間進行升溫,使熱度做到均勻化。
  (2)成型工序。向模具內注射熔融的樹脂,使小球將模具澆口密封後,為使溫度、壓力做到均勻化,對金屬模進行保溫。
  (3)緩冷工序。利用自行保持合模力的機構,一邊維持合模狀態,一邊從壓型機上取下壓型模。取下的單體壓型模具,採用自然空氣冷卻或是強制空氣冷卻的方式,以每分鐘1~2℃的速度逐漸降溫。
  (4)取出工序。從壓型模中取出成形品。由於壓型模具已從壓型機上取下,這時只要取下自行保持合模力的機構,就能打開型模取出成形品。在成形品取出過程中,由於樹脂的壓力相當於大氣的壓力,所以不需要推出裝置,只要打開突出分型面的部分,成形品就能離模。

   澆口密封成型法的關鍵要素,是金屬模具的溫度條件和注射充填條件(緩慢冷卻結束時樹脂壓力為大氣壓力的條件)。因此,既使是模壓成型形狀和體積不同的成 型品,也不用改變注射時和冷卻結束時的金屬模具的溫度,只要有充裕的時間使溫度-壓力達到均勻化,並保持緩慢冷卻的速度,根據模穴的容積注射充填樹脂,就 能進行高精度地複製。

  4.2 壓製成型法

  所謂壓製成型法就是將光學塑料毛坯放入金屬模具中模壓成光學塑料零件的一種方法。下面介紹其中一種壓製成型方法--再熔融成型法。

   再熔成型法,是將近似於成形品形狀的毛坯,插入具有複製面形、又使樹脂不能流出的金屬模具中,在模穴容積一定條件下,將模穴中的樹脂加熱至樹脂轉化溫度 Tg以上,利用因樹脂的膨脹和軟化-熔融所發生的均勻的樹脂壓力,使樹脂緊密附著到模子的複製面上,等溫度-壓力均勻後,在相對容積一定、溫度-壓力均勻 條件下,徐徐冷卻至樹脂的熱變形溫度以下,然後打開型模取出壓型成形品的一種光學塑料零件成形方法.再熔成型法,通過利用不同的工序確保壓形品的形狀創成 和面形精度,緩和了成形品內的殘留應力和密度分佈,實現了成形品的精度優良製作。再熔成型法工藝由下述2道工序組成。

  (1)毛坯成形工序。使用普通的注射成形法,製作近似於最後成形品形狀的毛坯成形品。

  毛坯成形工序,由於採用的是通常的注射成形法,在將熔融的樹脂向低於樹脂熱變形溫度的模具中注射充填過程中,表層部就會驟冷固化,毛坯會有收縮。若出現面形不能複製的話,則是殘留應力比較大的緣故。

  (2)面形複製工序。將毛坯插入具有複製面形、而又使樹脂不能流出外部的不同模具中,加熱-冷卻,進行面形複製。

  面形複製工序是將低精度的毛坯高精度化的一個工序。具有面形的模具,通過加熱至樹脂的Tg(樹脂轉化溫度)以上,殘留應力可以得到緩和。進而,由於加熱時樹脂的軟化-熱膨脹能使模穴內發生均勻的樹脂壓力,所以,能夠實現高精度的面形複製。

  為了防止發生溫度分佈和壓力分佈,冷卻需要緩慢進行,而且必需冷卻至樹脂熱變形溫度以下。這樣,開模取壓形品時,成形品才不會變形。另外,由於開模時的樹脂壓力必需大致相當於大氣壓力,因此,模穴容積一定條件下的毛坯的重量誤差也是應該引起重視的一個要點。

  通過實施各自具有特徵的毛坯工序和面形複製工序,可以構成能生產性能優良的塑料光學零件的製造系統。

  再熔成形法的面形複製工序的設備,除了能夠開、合型模的沖壓機外,還有不需要有澆口和噴嘴之類的部分金屬模具,製作起來很便宜。因此,設備增設起來很容易。可以根據生產量的情況,適宜地進行設備投資,建立起一個相對應的柔性生產系統。

   再熔成形法的特徵是:由於再熔成形法的毛坯成形工程採用了普通的注射成形工藝,所以具有成形週期短、適合批量生產之優點。但是,面形複製工程必需實施加 熱、冷卻工程,因此又存在著與澆口密封成型法一樣週期長的缺陷。然而,因為不需要像通常注射成形工藝那樣的注射、充填工序,所以也就不用考慮樹脂流路的問 題。又因成形時產生的壓力小於30MPa(通常的注射成形為100MPa左右),故並不要求模具有很高的剛性。模具因為體積小而可使用多個,因此,可以採 用多個模具彌補生產效率低的不足。由於加熱、冷卻容易控制,成形週期縮短,所以生產效率可以提高。

  另外,由於毛坯成型工序和面形複製工序能夠獨立操作,面形複製工序的沖壓機可以對每一個壓形品的成形條件進行設計,所以可以進行不同樹脂、不同形狀的成形品的混合生產。

  利用該成型法製作的非球面反射鏡經過形狀測量,結果是:在±100mm範圍內,反射面的彎曲(起伏)度在4μm以下,成形品的精度很高。

  5 計算機數控研磨和拋光技術

   技算機數控研磨和拋光技術是一種由計算機控制的精密機床將工件表面磨削成所需要的面形,然後用柔性拋光模拋光,使工件在不改變精磨面形精度的條件下達到 鏡面光潔度的光學零件製造技術。該技術主要用來加工中、大尺寸的非球面光學零件。加工零件時,磨削工具受計算機控制,在工件表面進行磨削去除加工。磨削工 具根據工件的不同加工餘量,在工件表面停留不同的時間來實現非球面加工。工件加工精度主要取決於測量精度和所採用的誤差校正方法。

  非球面光學零件的精密研磨拋光比較普遍採用的一種技術是:小型磨床修正研磨拋光法。

   小型磨床研磨拋光法分為縱向掃瞄和光柵掃瞄兩種方式。縱向掃瞄方式是:被加工的工件以一定的速度旋轉,拋光器則沿著貫穿工件軸心的斷面進行搖動。縱向掃 瞄方式對工件軸心附近的形狀控制和非旋轉對稱部分的形狀誤差的修正研磨拋光比較困難,但是研磨時間可望縮短,設備比較簡單。光柵掃瞄方式則是:被加工的工 件不旋轉,拋光器在工件的表面移動研磨拋光。這種方式不僅容易進行非旋轉對稱部分的修正研磨拋光,而且還可以進行離軸光學零件的研磨拋光加工。但是,此種 方式的設備組成較為複雜,成本比較高。
為了提高加工精度,小型磨床加工系統必需具備很高的精度和反覆再現性、研磨去除量不隨時間變化而變化、 高精度的模擬計算、和與實際研磨的一致性等條件。小型磨床研磨拋光加工的工藝流程大致如下:首先由三維測試機、激光干涉儀測出加工面的形狀精度,求出面形 誤差。工作站根據面形誤差計算出需要研磨拋光的軌跡,並將該研磨拋光軌跡轉換成數控編碼傳送給磨床進行加工。加工完了後進行面形精度測試。面形精度若是沒 有達到要求,再反覆地進行計算、加工。通過這樣反覆地進行面形測試、計算、修正研磨拋光,即可達到提高面形精度的目的。

  小型磨床 最早是由美國研究開發的,其磨頭直徑不超過工件的1/3,由計算機計算去除量,加工精度比較高。可以高精度地加工直徑1500~1800mm的大口徑非球 面。目前,美國亞里桑那大學的光學中心,已基本上用計算機數控研磨拋光加工技術取代了傳統的手工研磨拋光加工非球面光學零件。另外美國羅徹斯特大學光學製 造中心也已獲得了300多萬美元的國防基金和幾家大公司的資助,實現了非球面透鏡生產的自動化。

  80年代末,日本研製出了的超精 密數控范成法研磨機,使用該研磨機加工出的光學零件,其面形精度達到了0.08μm,表面粗糙度的均方根值為0.2nm。若用瀝青拋光模進行加工,表面粗 糙度的均方根值能達到0.035nm。最近,日本採用門型機械加工中心,使用4000#~8000#鑄鐵絲結合金剛石砂輪,利用ELID(在線電解修正 法)磨削法,磨削BK-7光學玻璃,所獲得的非球面的面形精度為1μm,表面粗糙度為43nmRmax。

  德國的計算機數控研磨拋 光技術很快。Loh公司生產的CNCSPM50和120研磨拋光機,不僅可以粗、精磨球面光學零件,而且還可以粗、精磨非球面光學零件。施耐德 (SCHEIDER)光學機械公司90年代末製造的ALG100型計算機數控非球面磨床和ALP100型計算機數控非球面拋光機,可以高效率地進行非球面 光學零件的生產。

  ALG100型計算機數控非球面磨床,可在對話框中直接輸入非球面加工參數,自動計算非球面磨削加工量;採用先 進的導向裝置與旋轉加工技術,各軸與旋轉軸的傳動使用了高性能數字AC伺服傳動裝置;採用干涉測量系統加強加工過程中的工件的測量,能對工件的非球面加工 進行優化調整;非球面加工中心能夠直接進行非球面或稜形的組合加工,具有綜合預加工的2、3維混合加工技術功能;旋轉軸採用高頻空氣軸承,可利用環形工具 進行高速的球面預加工,能夠獲得最佳透鏡半徑等特性。

ALG100非球面磨床的主要技術規格如下:加工工件尺寸:最大直徑為150mm,半徑為10mm的平面;軸數3軸(X,Z,B)X、Z;軸的推進(進 刀)速度為0.01~5000mm/min;X、Z軸的位置往返精度為±0.001mm;B軸的推進(進刀)速度為0.01~4300°/min;B軸位 置往返精度為±4";連接機構旋轉軸(H×D)25×42mm;主軸轉速度為5000~15000轉/min;工件軸轉速為25~1500轉/min;磨 床外形尺寸1150×1900×1220mm;質量為1000kg。

  ALP100型計算機數控非球面拋光機,可以在對話框中直接 輸入非球面加工參數;自動計算非球面拋光加工量;使用特殊加工的非球面磨具拋光;拋光參數可進行計算機數控、調節與觀察;可以優化計算機數控的拋光軌跡, 製作出高表面質量的複雜的非球面幾何形狀;採用了先進的導向與轉軸技術,可高速地進行連續的軌跡拋光;各軸和旋轉軸都採用了高性能的數字式AC伺服傳動裝 置;可基於圖形模式進行優化拋光的調整等特性。
該拋光機的主要 技術規格如下:可加工工件的尺 寸:最大直徑為150mm,半徑為10mm的平面;軸數3軸(X,Z,B);X、Z軸的推進(進刀)速度為0.01~5000mm/min;X、Z軸位置 往返精度為±0.001mm;B軸的推進(進刀)速度)0.01~430°/min;B軸的位置往返精度為±4";連接機構旋轉軸25×42mm;主軸轉 速度為50~2500轉/min;工件軸轉速為25~1500轉/min;拋光機外形尺寸1150×1900×1220mm;車床質量1000kg。
 6 光學零件加工的柔性自動化技術

   近10多年來,計算機數控技術發展很快,已迅速被大多數工業加工行業所採用。目前,計算機數控的加工方法,特別是計算機數控加工中心已經被認為是增大加 工的靈活性、提高工件加工的速度和質量的最基本的方法。在過去的年代裡計算機數控技術在光學加工行業中的應用比較少,這幾年已經引起了行業專家們的重視。

   自1990年起,為滿足軍用光學系統目前和未來的需求,美國"陸軍製造技術計劃"支持發展新的技術。美陸軍材料司令部投資700萬美 元在羅徹斯特大學建立起一個面積達1670m2的光學製造中心。該中心得到了美國精密光學製造協會和美國國防部的支持,其成員目前已有100來個。

   建立光學製造中心的目的,是想通過引進以定型加工為基礎的計算機數控加工機床,使勞動力密集型的光學加工技術迅速實現柔性自動化,從而改善美國在光學零 件製造方面的能力,使美國工業的光學基礎恢復元氣。光學製造中心,通過和其成員之間的緊密聯繫,加快了新技術的開發步伐,不久便開發出了稱之為光學自動化 和管理(Opticam)的新光學加工技術。這種Opticam技術,以定型加工為基礎,通過計算機數控機床和柔性工具,實現光學零件加工的柔性自動化。

   1992年光學製造中心研製出了第1台型號為Opticam SM的加工系統,實現了光學零件在計算機數控機床上加工的夢想。該機床 的工具軸為具有空氣軸承的高速旋轉軸,其線速達50m/s。工具為金屬結合劑的金剛石環形磨輪,其粒度分別為20~10μm、12~6μm、4~2μm。 在零件加工過程中,計算機控制進給,機械手更換夾具。該加工機床加工的光學零件其表面粗糙度(RMS)可達20nm以下,次表面的破壞層深度小於2μm。 5分鐘內面形精度可達1λ(PV值)。1993年該中心又推出了第2代設計產品Opticam SX加工系統。這是一種非常靈活的運動精度為亞微米級的5 軸計算機數控精密加工中心。使用的工具為由燒結金剛石磨料製成的環形磨輪。磨輪的轉速為10000轉/min,工件軸的轉速為200轉/min。機床的定 位精度為1μm,轉角精度為1"。該系統能完成所有球面零件的粗磨、精磨、超精磨、定中心、磨邊、倒角等加工工序。能加工直徑為10~150mm的凹凸半 球零件。加工出的光學零件的面形精度好於λ/3(P-V值),表面粗糙度的均方根值為3~10nm。目前這種Opticam機床已被12家光學零件製造廠 使用,已生產出了可供標槍導彈、F-16飛機、目標捕獲指示瞄準具/駕駛員夜視傳感器和導彈尋的改進計劃等用的光學元件。

   Opticam技術的開發應用,極大的提高了光學加工的適應性和生產率,收益巨大。首先是,使光學零件加工擺脫了對熟練技術工人的依賴,工人不再需要進行 長時間的培訓。只要利用給與的工件加工參數,任何計算機數控機床操作員均能生產出符合要求的光學零件,而且可以100%的提高產量。因此,它完全能夠應付 因戰爭動員所造成的生產量驟增。其次是,不再為每種透鏡配備專用的工具與夾具,從而使光學零件的加工費用得以降低。羅徹斯特大學光學製造中心,曾利用初步 得到的數據將這種新技術與傳統的光學加工方法作了比較,按保守估計得出的結論是,用新技術比用傳統的技術要平均節省20%的費用。其三是,由於 Opticam技術提供的柔性加工能力使在同一台機床上可以生產不同的光學零件,且很快就能拿出樣品,所以可使光學元件加工的總週期縮短30~60%。為 了進一步完善Opticam技術在光學加工領域的應用,在"陸軍製作技術計劃"的支持下,羅徹斯特大學的光學製造中心正潛心作如下方面的工作:①針對 Opticam SX加工系統加工出的玻璃透鏡仍需通過一次拋光工序的加工,才能去除次表面的損傷和使表面粗糙度的均方根值小於2μm,正在研究原蘇聯人 Belarus發明的磁流體精加工技術。現已研製出利用磁流體拋光技術的Opticam磁流體拋光樣機和定型方法,下一步工作是研究確定磁流體拋光過程的 特性和將其工作最佳化;②研製價格便宜的、加工直徑為2~50mm的透鏡用的Opticam micro SX機床,將Opticam技術擴展到微型透鏡 加工領域。③進行金剛石磨料刀具最佳化和改進冷卻劑的研究。打算利用日本人發明的加工中電解整修技術,通過計算機控制電解去除研磨工具的粘結材料,在研磨 中不斷地進行金剛石研磨工具的整修。④1996年,美國國防高級研究計劃局啟動新的600萬美元的技術再投資計劃,預將Opticam技術擴展到玻璃和易 碎材料的非球面透鏡的製造領域。光學製造中心正在進行這項工作的研究,打算通過將定型微研磨技術與磁流體拋光技術相結合的做法來實現這一計劃。按計劃 1999年實現製作設備商品化。

另外,羅徹斯特大學光學製作中心還開始了有關製造非軸對稱和共形光學元件方法的研究,預將Opticam技術延伸到非徑向對稱元件的成形加工領域。


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