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在上臘製程作業完成後,接下來的製程就是破壞力最高的「研磨製程」。

過 去最成熟的研磨製程就是Lapping,即是將晶片使用氧化鋁研磨粉作第一次研磨。其作業方式是使用千分錶量測與設定鐵盤外圍的鑽石點,再將其放置於磨盤 上,使用研磨粉作研磨。使用鑽石點的目的在於讓晶片研磨至設定厚度時,由於鑽石的硬度最高,所以晶片就不致於再被磨耗。

但是,由於藍光 LED基板為藍寶石,硬度高!所以使用Lapping的方式研磨時,會導致製程時間過長。因此,近幾年來以Grinding的方式進行藍光LED的晶片研 磨,降低製程工時。

然而,由於Grinding研磨方式的破壞力比Lapping更大,所以此製程並不適用於質地較脆的紅、黃光晶片。所 以,Lapping與Grinding的研磨製程,就有如所謂的:有一好,就沒有兩好.........

而紅、黃光與藍光的研磨製程,在 不同的條件之下,由此開始有了不同的製程作業路徑!

由於Lapping是成熟的研磨製程技術,重點在於研磨粉中的氧化鋁粒徑,通常有經驗 的工程師都會要求供應商作過篩的作業。所以只要此要點有做執行,一般遇到的問題大多在於磨盤的凹盤或凸盤控制。在此就不多作贅述...........

Grinding 製程設備可分成臥式與立式兩種,臥式研磨機所指的是研磨馬達與水平面平行,可適用於八片式以下的研磨設計。但是若為12片式研磨時,因陶瓷盤過大,則無法 使用此設計方式。立式研磨機所指的是研磨馬達與水平面垂直,而八片式以上的研磨機以此設計為主。

在Grinding的製程方式中,使用鑽 石砂輪搭配冷卻液(冷卻油+RO水或DI水)或鑽石切削液來研磨晶片。雖然冷卻方式會依原設計者的製程理念與經驗而有所不同,但是並不影響製程的結果。此 製程作業之中,最主要的在於工作軸與砂輪軸的調整必須呈平行。再來,就是砂輪的磨石結構。

砂輪的磨石除了鑽石粒徑之外,就是燒結的配方與 溫度,這會對研磨後的品質與砂輪壽命造成不同的結果。一般而言,砂輪的燒結都是供應商的機密,使用端無法得知。然而,砂輪上磨石的設計,也可產生不同的研 磨效果與使用壽命。而目前我所使用過的砂輪設計,以磨石呈長條塊狀的圓周排列方式最佳。而圈數約為三圈以上,可以讓砂輪的使用壽命較長。

因為砂輪的磨石結構與Dicing Saw的鑽石刀相同,所以都必須作使用修整,目的在於讓鑽石顆粒的浮出狀況最佳化,提高製程的品質與砂輪及鑽石刀的壽命。Dicing Saw在刀具第一次使用與切割的過程之中,都會以厚度500um以上的矽晶片作修刀。相同的,砂輪在初次使用與研磨過程之中,也必須使用油石作砂輪修整。

由於Grinding研磨製程的速度效率高,若可以在研磨時將晶片厚度儘可能的減薄,則拋光的工時與成本就能降低。但是,研磨是高破壞性 的製程作業,所以晶片減薄有一個極限值;另外,研磨製程中因鑽石所造成的刮痕約為15um,所以完工厚度值也影響著研磨減薄的厚度設定。

然 而,在個人使用過的Grinding研磨機裡,不論是T牌、W牌、SF牌等,最大的極限值都在95~105um。因為藍寶石基板的硬度與翹曲,而使得完工 後在100um以下的結果相當不穩定。

所以,LED的研磨製程主要在設備設計與使用者經驗的搭配。但是晶片的本質,仍是影響結果的主因, 這就看各路高手如何見招拆招了。

 

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