BW薄 膜 材 料 技 術1-9www.tool-tool.com
(a)
(b)
(a)濺鍍沉積時間1小時之試片截面，此via深1μm、寬0.5μm，深寬比約2：1。(b)與左圖有相同製程條件的試片，via最底層明顯已經有銅晶種層填入。
濺鍍沉積時間為30分鐘，已有銅晶種層沉積，深
度約1μm、寬0.35μm，比例3:1的via試片截面。
離子束濺鍍沉積30分鐘後，在無電鍍液中反應3秒鐘之試片截面，在上層的壁上有銅晶粒附著，其晶粒相當細小，深度約1μm、寬0.35μm，比例
3:1的via試片截面。
國立勤益技術大學機械系
教授：張子欽博士
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