BW薄 膜 材 料 技 術1-10www.tool-tool.com

圖示:

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轉述

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經過離子束濺鍍沉積後在無電鍍液中反應5分鐘的試片截面,經過5分鐘的鍍著反應,via已經完全被填滿,深度約1μm、寬0.35μm,比例3:1的via試片截面。

圖示:

直接利用離子束濺鍍沉積銅,由圖中可以看出因濺鍍沉積速率較快,所以會發生堆積效應,並產生孔洞,深度約1μm、寬0.35μm,比例3:1的via試片截面。

圖示:

深度約1μm、寬0.35μm,比例3:1的via試片可
看到銅膜填充情形相當良好,每個via都有填滿
且無小孔或膜不連續的現象。

圖示:

經過離子束濺鍍沉積銅晶種層,試片表層已經均勻覆蓋一層銅晶種層,在側壁與底層也有較薄銅 晶種層覆蓋,此trench寬度為0.35μm、深度約2μm,深寬比約6:1。
由於離子束濺鍍沉積可以均勻的將銅濺鍍沉積在試片表層上,且與擴散阻障層有相當好的附著性,而本實驗所得銅膜對於via有良好的填充能力。
XRD
銅膜的織構(texture)會隨底材種類與沉積方式不同而有所改變。而在銅的織構(texture)中,以(111)面的性質最好,因此我們可利用X光繞射儀探討銅晶種層存在時,再經無電鍍銅金屬層對織構(texture)的影響。

圖示:

在離子束濺鍍沉積銅晶種層上無電鍍銅膜之X光繞射圖

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國立勤益技術大學機械系
教授:張子欽博士

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